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正文 第1011节

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说归说,闹归闹,萧白对于时代IC制造在短期内取得成绩感到很欣慰,也感到很自豪。

“萧董,说正经的,虽然我们在28nm制程取得了成功,但不代表我们就可以高枕无忧了。

现实的问题还有很多,比如像材料、设备等领域,我们可以做到‘去M化’,但距离真正的全国产化还有相当的距离。”

笑过之后,魏建军也谈到了一个隐忧。

IC制造所要用到的材料和设备品类繁多,可不仅仅是一个晶圆片、一台光刻机这么简单。只能说晶圆片和光刻机分别是材料、设备的代表,而不是唯一。

当今世界上在材料、设备领域实力最强的国度,其实是R本。

R本在半导体产业链上游的实力非常强大,材料这块,其全球市场份额占比高达52%,从前端的SI晶圆、合成半导体晶圆、光刻胶等十一种材料到后端塑料板、TAB、COF、芯片焊接材料等八种材料,日本拥有绝对的统治地位。

而在设备领域,R本虽然没有像材料领域那么变态,但实力仍不容小觑。全球15家顶级半导体设备企业,日本共有8家企业上榜,独占鳌头,美欧分别只有4家和2家。

由于R本的半导体企业基本上拥有自主技术,北美技术的应用非常稀少。所以在当前的外部环境之中,还是可以合作的,也为构建‘去M化’生产线立下了汗马功劳。

但以后呢?

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